Fastmicro 掩膜版｜保護(hù)膜表面顆粒物快速檢測(cè)系統(tǒng)（PDS）

掩膜版｜保護(hù)膜表面顆粒物快速檢測(cè)系統(tǒng)（PDS）為掩膜版、掩膜版保護(hù)膜以及基板（襯底）制造工藝，提供高通量的表面顆粒污染檢測(cè)服務(wù)。

該系統(tǒng)對(duì)粒徑大于 0.1µm 的顆粒具有高靈敏度，是一種高效且提供服務(wù)的選擇。它能以手動(dòng)或自動(dòng)的操作方式，以及較低的維護(hù)成本，取代傳統(tǒng)的顆粒檢測(cè)系統(tǒng)。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

• 高通量檢測(cè)：每小時(shí)可檢測(cè) 400 片晶圓（WPH）

• 數(shù)據(jù)輸出：根據(jù) ISO 14644-9 標(biāo)準(zhǔn)，在用戶界面和 PDF 報(bào)告輸出 SCP 等級(jí)

• 正反兩面檢測(cè)：?jiǎn)未螠y(cè)量中完成正反兩面檢測(cè)（無(wú)需翻轉(zhuǎn)）

• 檢測(cè)范圍：能夠檢測(cè) ≥ 0.1µm 聚苯乙烯乳膠（PSL）等效顆粒（經(jīng) NIST 認(rèn)證）

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生產(chǎn)過(guò)程中的一致性測(cè)量

快速: 能在數(shù)秒內(nèi)完成大面積成像

定量: 適用于生產(chǎn)和研發(fā)環(huán)境中的質(zhì)量鑒定與監(jiān)測(cè)

操作簡(jiǎn)便: 不受操作人員影響，自動(dòng)化，潔凈抓取方式

精準(zhǔn): 高分辨率測(cè)量（數(shù)量、位置、尺寸）

一致性: 每次測(cè)量都保持客觀、穩(wěn)定

高通量: 能在工藝時(shí)間窗口內(nèi)得出結(jié)果

FM-PDS: 直接檢測(cè)表面顆粒

該系統(tǒng)可為晶圓制造工藝、下一代化合物半導(dǎo)體以及先進(jìn)封裝應(yīng) 用，提供高通量的表面顆粒污染檢測(cè)服務(wù)。 

該系統(tǒng)對(duì)粒徑大于 0.1μm 的顆粒具有高靈敏度，是一種高 效且提供服務(wù)的選擇。

它能以手動(dòng)或自動(dòng)的操作方式，以及 較低的維護(hù)成本，取代傳統(tǒng)的顆粒檢測(cè)系統(tǒng)。 

對(duì)于下一代半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用， PDS 系統(tǒng)具備的屬性：雙面同 時(shí)掃描（選配）；

靜態(tài)視場(chǎng)掃描（在圖像采集過(guò)程中無(wú)需移動(dòng)產(chǎn)品）。

多功能模塊化平臺(tái)

系統(tǒng)專為直接測(cè)量 DUV（深紫外）和 EUV（極紫外）掩膜版保 護(hù)膜、掩模版或其他類型基板表面的顆粒污染水平而研發(fā)。

?該系統(tǒng)可根據(jù)需要客戶需求進(jìn)行定制和擴(kuò)展。測(cè)量模塊也可為系 統(tǒng)集成商和原始設(shè)備制造商（OEM）提供貼牌服務(wù)